Resumen

En este estudio, investigamos las propiedades morfológicas, estructurales y eléctricas de las estructuras de nanoparedes de carbono (CNW) obtenidas por deposición química en fase vapor potenciada por plasma (PECVD) y subrayamos los efectos inducidos del tratamiento con plasma de argón/nitrógeno (Ar/N2) posterior a la síntesis sobre el comportamiento eléctrico. Las micrografías de microscopía electrónica de barrido de vista superior y de sección transversal revelaron que las muestras fabricadas tienen una altura de unos 18 μm, y los bordes son inferiores a 10 nm. El análisis Raman mostró la presencia de los picos específicos de los materiales basados en grafeno, es decir, la banda D, la banda G, la banda D′, la banda 2D y la banda D G. Los valores medios de la resistencia eléctrica de las muestras fabricadas se evaluaron mediante las características de corriente-tensión adquiridas a temperatura ambiente, en los rangos de 0 V-0,2 V, y se observó un aumento de aproximadamente el 50 tras el tratamiento con plasma Ar/N2 post-síntesis en comparación con las muestras prístinas. Además, las medidas Hall demostraron que las estructuras CNW obtenidas tenían conductividad tipo p (el coeficiente Hall era de 0,206 m3/C), y la concentración de portadores de carga era de 7,8×1019 cm-3, a temperatura ambiente.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanocompuestos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanocomposites
• Palabras claves:banda, temperatura ambiente, tratamiento con plasma n2 postsíntesis, deposición química en fase vapor, micrografías por microscopía electrónica, tratamiento con plasma postsíntesis, muestras, estructuras cnw, coeficiente hall, medidas hall
• Keywords:band, room temperature, n2 postsynthesis plasma treatment, chemical vapour deposition, electron microscopy micrographs, postsynthesis plasma treatment, samples, cnw structures, hall coefficient, hall measurements