Resumen

Se depositaron películas delgadas de óxido de plata sobre sustratos de vidrio a una temperatura de 50°C mediante la técnica de deposición en baño químico bajo diferentes tiempos de deposición utilizando el precursor AgNO3 puro y trietanolamina como agente complejante. El análisis químico basado en la técnica EDX muestra la presencia de Ag y O en los niveles de energía adecuados. Las características morfológicas obtenidas mediante SEM mostraron que las estructuras de AgxO variaban según el tiempo de deposición. La difracción de rayos X mostró los picos de Ag2O y AgO en la estructura. La brecha de banda directa y el índice de refracción aumentaron a medida que aumentaba el tiempo de deposición y se situaron en el rango de 1,64-1,95 eV y 1,02-2,07, respectivamente. Los valores del band gap y del índice de refracción obtenidos indican posibles aplicaciones en sistemas fotovoltaicos y fototérmicos.

• Materias:Corrosión del acero Aceites y grasas Polimeros Acero Acero inoxidable Descarga eléctrica microfluidos
• Subjects:Corrosion of steel Oils and fats Polymers Steel Stainless steel Electric shock microfluids
• Palabras claves:índice de refracción, pico de ag2o, película fina de óxido, presencia de ag, rango de 1,64-1,95, diferentes tiempos de deposición, precursor puro de agno3, nivel de energía adecuado, técnicas de deposición en baño, cambio de tiempo de deposición
• Keywords:refractive index, peak of ag2o, oxide thin film, presence of ag, range of 1.64–1.95, different deposition time, pure agno3 precursor, appropriate energy level, bath deposition techniques, deposition time change