Resumen

Hemos preparado películas delgadas magnéticas de Ni81Fe19 sobre sustratos monocristalinos de Si(001) a través de una capa de grafeno mediante pulverización catódica por magnetrón para el Ni81Fe19 y deposición química en fase vapor para el grafeno. La investigación estructural demostró que la calidad cristalina de las películas delgadas de Ni81Fe19 mejoraba significativamente con la inserción de la capa de grafeno en comparación con las crecidas directamente sobre sustrato de Si(001). Además, la magnetización de saturación de la heteroestructura Ni81Fe19/grafeno/Si(001) aumentó hasta 477 emu/cm3 con una temperatura de recocido Ta=400°C, que es muy superior a los valores de las heteroestructuras Ni81Fe19/Si(001) con Ta entre 200°C y 400°C.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Bioingeniería Nanoestructuras Nanocompuestos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Bioengineering Nanostructures Nanocomposites
• Palabras claves:si(001, temperatura ta=400°c, películas delgadas de ni81fe19, deposición química de vapor, películas delgadas magnéticas, capa única de grafeno, ni81fe19, grafeno, investigación estructural, cristal si(001
• Keywords:si(001, temperature ta=400°c, ni81fe19 thin films, chemical vapor deposition, magnetic thin films, single graphene layer, ni81fe19, graphene, structural investigation, crystal si(001