Las películas delgadas de trióxido de molibdeno (MoO3) se cultivaron sobre sustratos Kapton flexibles recubiertos de ITO utilizando la técnica de evaporación reactiva activada asistida por plasma. Las deposiciones de las películas se llevaron a cabo a una potencia de resplandor constante y a presiones parciales de oxígeno de 8 W y 1×10-3 Torr, respectivamente. Se investigó la influencia de la temperatura del sustrato en las propiedades microestructurales y ópticas. Las láminas delgadas de MoO3 preparadas a una temperatura del sustrato de 523 K estaban compuestas por granos de tamaño nanométrico uniformemente distribuidos con una estructura ortorrómbica de α-MoO3. Estas láminas delgadas nanocristalinas de MoO3 presentaban una transmitancia óptica más alta, de aproximadamente el 80% en la región visible, con una separación de banda óptica evaluada de 3,29 eV. Con la inserción de 12,5 mC/cm2, las películas exhibieron una modulación óptica del 40% en la región visible con una eficiencia de coloración de 22 cm2/C a la longitud de onda de 550 nm. Las películas de MoO3 depositadas a 523 K demostraron mejores propiedades fotocrómicas y mostraron la mayor concentración de centros de color para el tiempo de irradiación de 30 minutos a 100 mW/cm2.
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