Resumen

Se depositaron películas multicapa de carbono y nitruro de boro de nanoperiodo (C/BN)n, nitruro de boro y carbono (BN/C)n, nitruro de carbono y nitruro de boro de nanoperiodo (CN/BN)n, y nitruro de boro y nitruro de carbono (BN/CN)n ]con una estructura multicapa de 4 nm de periodo mediante pulverización catódica por radiofrecuencia (RF) sesgada. El sustrato utilizado para la deposición se colocó repetidamente frente a los blancos de grafito y nitruro de boro. Tanto la dureza a la nanoindentación como la resistencia al microdesgaste de las películas multicapa (CN/BN)n y (BN/CN)n cambiaron con el período de la capa. Las películas multicapa con un período de 4 nm presentaron la mayor dureza y resistencia al microdesgaste. Las características de procesamiento de las películas (C/BN)n y (BN/C)n con una estructura multicapa de 4 nm de período se investigaron utilizando un microscopio de fuerza atómica (AFM) conductivo con modulación de fuerza, que permite el registro cuantitativo de la corriente y la fuerza de fricción como funciones de la fuerza aplicada. Los resultados del procesamiento indicaron que las mediciones de la fricción y de la corriente superficial son métodos eficaces para investigar superficies nanoestructurales multicapa y que el método propuesto en este estudio para sistemas de procesamiento microelectromecánico tiene una gran precisión.

• Materias:Biotecnología Nanotecnología Fotocatálisis Nanopartículas Nanomateriales
• Subjects:Biotechnology Nanotechnology Photocatalysis Nanoparticles Nanomaterials
• Palabras claves:estructura multicapa período, nitruro de boro, bn)n, nitruro de carbono, resistencia al microdesgaste, películas multicapa, microscopio de fuerza atómica conductor, radiofrecuencia de polarización, nanoperíodo de nitruro de boro, blancos de nitruro de boro
• Keywords:period multilayer structure, boron nitride, bn)n, carbon nitride, microwear resistance, multilayer films, conductive atomic force microscope, bias radio frequency, boron nitride nanoperiod, boron nitride targets