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Artículo

Protection of Brass in HCl Solution by L-Cysteine and Cationic SurfactantProtección del latón en solución de HCl mediante L-cisteína y tensioactivos catiónicos

Resumen

El comportamiento electroquímico del latón y el efecto inhibidor de la L-cisteína en solución de HCl se investigan utilizando técnicas electroquímicas además del análisis SEM-EDS. Los resultados muestran que la eficacia de la inhibición depende de la concentración del inhibidor y del tiempo de inmersión del electrodo de latón en la solución inhibidora. Los resultados de las pruebas electroquímicas apuntan a la formación de un complejo Cu(I)-cisteína en la superficie de latón en soluciones de cloruro con la adición de diferentes cantidades de cisteína. El complejo formado tiene un papel importante en la inhibición del proceso de corrosión en los medios examinados, ya que el Cu(I)-cisteína reduce significativamente la disolución del latón. Las curvas obtenidas en solución ácida en presencia de cisteína tras el pretratamiento en dodecil sulfato sódico (SDS) mediante mediciones cíclicas y de polarización potenciodinámica indican una intensa inhibición de los procesos de corrosión. La inhibición eficaz de la disolución del latón es el resultado de la formación de una capa protectora estable en la superficie del latón tras el pretratamiento del electrodo en solución de SDS. La superficie de latón se modifica en una solución de dodecil sulfato sódico para aumentar la adsorción de cisteína en la superficie del electrodo y mejorar la eficacia de la inhibición. El mecanismo de inhibición de la cisteína incluye la adsorción en los sitios activos de la superficie del electrodo, lo que se confirma mediante el análisis SEM-EDS del latón. La adsorción de la cisteína en una solución de ácido clorhídrico obedece a la isoterma de adsorción de Langmuir. Además, la energía libre de Gibbs de la adsorción tiene un valor de -31,5 kJ/mol e indica una fuerte adsorción de la cisteína en la superficie del electrodo.

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