Resumen

Se estudió la estabilidad de las películas anódicas crecidas potenciodinámicamente sobre titanio, titanio grado 2 y aleación Ti6Al4V en un electrolito fisiológico simulado, hasta 8,0 V, y a temperatura ambiente para determinar los niveles de resistencia a la corrosión de los implantes dentales. En solución PBS (tampón fosfato salino), finas películas de óxido de titanio protegen la superficie de la aleación Ti6 4%V hasta 6,0 V, del Ti puro hasta 8,0 V y del Ti-grado 2 hasta 1,5 V. A potenciales más positivos, comienza a producirse corrosión localizada, posiblemente debido a los elementos de la aleación (Ti6Al4V-V y Al) y a los niveles variables de intersticiales (Ti-grado 2: C, N y Fe, principalmente). Cuando los biomateriales se sometieron a condiciones de circuito abierto, en saliva artificial, la peor resistencia a la corrosión se observó en el implante dental (Ti-grado 2), según los valores de potencial de circuito abierto y el análisis de la tasa de reconstrucción de estas películas de óxido. Los espectros XPS revelaron que el óxido TiO2 es la fase principal en la película de óxido de barrera que recubre el implante dental.

• Materias:Catálisis Electroquímica Electrodos Voltamperometría Biosensor electroquímico Biosensores
• Subjects:Catalysis Electrochemistry Electrodes Voltammetry Electrochemical biosensor Biosensors
• Palabras claves:V, grado, Ti, implante dental, películas finas de óxido de titanio, película de óxido de barrera, niveles de resistencia a la corrosión, solución salina amortiguadora de fosfatos, análisis de la tasa de reconstrucción, electrolito fisiológico simulado
• Keywords:V, grade, Ti, dental implant, thin titanium oxide films, barrier oxide film, corrosion resistance levels, phosphate buffer saline, reconstruction rate analysis, simulated physiological electrolyte