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La deposición química de vapor por lecho fluidizado (CVD-FBR) es una variante de la técnica de deposición química de vapor que combina las ventajas de la activación térmica por calentamiento y el lecho fluidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la necesidad de proteger superficialmente los componentes que operan a altas temperaturas. Además, tiene la ventaja de ser una técnica de bajo costo y se puede controlar con relativa facilidad la composición del material depositado.
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