Resumen

Se han desarrollado nuevas rejillas TEM recubiertas con películas ultrafinas de Al2O3 amorfo mediante la técnica de deposición de capas atómicas. Las películas amorfas de Al2O3 pueden soportar temperaturas superiores a 600∘C en aire y 900∘C en vacío cuando el grosor de la película de Al2O3 es de 2 nm, y de hasta 1000∘C en aire cuando el grosor es de 25 nm, lo que permite calentar rejillas TEM con nanopartículas hasta 1000∘C en aire y observarlas inmediatamente por TEM sin interrumpir las nanopartículas. Tales rejillas TEM recubiertas son muy deseadas para aplicaciones en microscopía electrónica de transmisión de alta resolución y alta temperatura.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanocompuestos Nanotubos
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanocomposites Nanotubes
• Palabras claves:aire, tales rejillas tem recubiertas, técnica de deposición de capas atómicas, microscopía electrónica de transmisión de resolución, películas al2o3 amorfas ultrafinas, nuevas rejillas tem, películas al2o3 amorfas, calentamiento de rejillas tem, observación inmediata de tem, nanopartículas
• Keywords:air, such coated tem grids, atomic layer deposition technique, resolution transmission electron microscopy, ultrathin amorphous al2o3 films, new tem grids, amorphous al2o3 films, heating tem grids, immediate tem observation, nanoparticles