Resumen

El objetivo de este trabajo es desarrollar una célula solar de silicio de alta antirreflexión. Se propone un novedoso método de grabado asistido por metal (MAE) en dos etapas para la fabricación de una capa antirreflectante de un conjunto de estructuras micronanohíbridas. El tiempo de procesado para el grabado en una oblea de silicio de alta resistencia (NH) de tipo N puede controlarse hasta unos 5 minutos. El conjunto de estructuras micronanohíbridas resultante puede alcanzar una reflectividad media de 1,21 o un espectro de luz de 200-1000 nm. En el conjunto de estructuras micronanohíbridas fabricado se forma una unión P-N utilizando una fuente de difusión líquida de bajo coste. Se ha conseguido una célula solar de silicio antirreflectante con una eficiencia media del 13,1 por ciento. En comparación con una célula solar de estructura piramidal convencional, la corriente de cortocircuito de la célula solar propuesta aumenta en un 73%. La principal ventaja del proceso MAE en dos etapas es que se puede fabricar un sustrato de silicio altamente antirreflectante de forma rentable en un tiempo relativamente corto. El método propuesto es viable para la producción en masa de células solares de bajo coste.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Biophotonics
• Palabras claves:matriz de estructura micronanohíbrida, célula solar, silicio de alta antirreflexión, fuente de difusión líquida de coste, sustrato de silicio de alta antirreflexión, estructura piramidal convencional, corriente de cortocircuito, proceso de etapa mae, coste, método
• Keywords:micronanohybrid structure array, solar cell, high antireflection silicon, cost liquid diffusion source, high antireflective silicon substrate, conventional pyramid structure, shorted circuit current, stage mae process, cost, method