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Unexpected Selectivity of UV Light Activated Metal-Oxide-Semiconductor Gas Sensors by Two Different Redox ProcessesSelectividad inesperada de sensores de gas semiconductores de óxido metálico activados por luz ultravioleta mediante dos procesos redox diferentes

Resumen

Se resolvió el conflicto entre los dos modelos existentes, para proporcionar una explicación clara de la inesperada "selectividad" encontrada en los sensores de gas metal-óxido-semiconductor (MOS) activados por luz UV durante la detección de agentes reductores. Se construyó un nuevo modelo basado en el equilibrio dinámico de la concentración de oxígeno adsorbido mediante dos tipos de respuestas: ( 1 ) cuando la superficie MOS está adsorbida con oxígeno, la conductancia del sensor aumenta al inyectar agentes reductores (RA) (tipo α) y ( 2 ) cuando la superficie MOS no está cubierta por oxígeno, la conductancia disminuye al inyectar RA (tipo β). El modelo propuesto se verificó mediante los experimentos de sensores de gas MOS basados en ZnO, para revelar el origen de la inesperada "selectividad" encontrada por la intensidad óptima, donde la caída de corriente, debida a la reacción entre RA y MOS, que aumenta con la potencia UV y se nivela con la recíproca corriente de fondo, que disminuye con la potencia UV.

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