Resumen

Se obtuvo óxido de níquel con estructura porosa (PsNiO) mediante la oxidación de una película delgada de níquel. La película delgada de níquel se depositó utilizando el método de deposición por láser pulsado (PLD) sobre una lámina de níquel como sustrato. Los resultados muestran una PsNiO uniforme tras la oxidación de la película delgada de níquel a 750∘C durante 1 h. La difracción de rayos X (DRX) indica la formación de la estructura cristalina de NiO. La microscopía electrónica de barrido por emisión de campo (FESEM) revela una morfología diferente en la superficie de la lámina de níquel (muestra A) y en la película delgada de níquel (muestra B). La comparación de los resultados del FESEM tras la oxidación muestra que la PsNiO sobre la película fina de níquel era más regular y controlable que la capa de NiO sobre la lámina de níquel. Las imágenes FESEM también muestran que el grosor de la lámina delgada de níquel afectaba al tamaño de PsNiO obtenido tras la oxidación. Esto se debió al crecimiento de la estructura porosa en los límites de grano y a los tamaños de grano. Las propiedades electroquímicas del PsNiO como electrodo se investigan mediante voltamperometría cíclica (CV). Estos resultados muestran el efecto del tamaño de PsNiO sobre la corriente del pico anódico.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanotubos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanotubes
• Palabras claves:película delgada, níquel, lámina de níquel, oxidación, psnio, tamaño psnio, estructura cristalina nio, deposición láser pulsada, resultados, imágenes fesem
• Keywords:thin film, nickel, nickel foil, oxidization, psnio, psnio size, nio crystalline structure, pulsed laser deposition, results, fesem images