Resumen

El óxido rico en silicio (SRO) se ha considerado un material que permite superar los inconvenientes del silicio para conseguir funciones ópticas. Para producirlo pueden utilizarse diversas técnicas, entre ellas el depósito químico en fase vapor a baja presión (LPCVD). En este trabajo se presenta una breve descripción de los estudios realizados y se discuten los resultados obtenidos sobre las propiedades electro-, catódicas- y de fotoluminiscencia del SRO preparado por LPCVD y recocido a 1.100°C. Los resultados experimentales nos llevan a aceptar que las propiedades de emisión de la SRO se deben a nanoaglomerados de estado de oxidación más que a nanocristales. El mecanismo de emisión es similar al decaimiento Donante-Aceptor en semiconductores, y se ha observado un amplio espectro de emisión, de 450 a 850 nm. Los resultados muestran que la emisión es función tanto del exceso de silicio en la película como de la energía de excitación. Como resultado, se pueden obtener emisiones de diferentes colores seleccionando la energía de excitación adecuada.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanotubos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanotubes
• Palabras claves:deposición química de vapor a presión, propiedades de emisión sro, óxido rico en silicio, emisiones de diferentes colores, nanoaglomerados de estados de oxidación, energía de excitación adecuada, amplio espectro de emisión, lpcvd, sro, resultados
• Keywords:pressure chemical vapor deposition, sro emission properties, silicon rich oxide, different color emissions, oxidation state nanoagglomerates, suitable excitation energy, wide emission spectrum, lpcvd, sro, results