Los óxidos conductores transparentes (TCO) desempeñan un papel fundamental como electrodos frontales de las células solares de silicio (Si) de película fina, ya que pueden proporcionar dispersión óptica y, por tanto, una mejor absorción de fotones en el interior de los dispositivos. En este trabajo se estudia la texturización superficial de películas de óxido de zinc dopadas con aluminio (ZnO:Al o AZO) para mejorar la captación de luz en células solares de Si de película fina. Las películas de AZO se depositan sobre láminas de vidrio sodocálcico mediante pulverización de magnetrón de corriente continua pulsada. Se investigan varios métodos prometedores de texturización de AZO utilizando ácido clorhídrico (HCl) diluido y ácido fluorhídrico (HF), mediante un proceso de grabado en dos pasos. El procedimiento de texturización desarrollado combina las ventajas de los cráteres inducidos por el HCl y los rasgos más pequeños y dentados -pero lateralmente más uniformes- creados por el grabado con HF. En el proceso de dos pasos, el segundo paso de grabado realza aún más el velo óptico, al tiempo que mejora la uniformidad de las características de textura creadas por el grabado HCl. Las películas AZO resultantes presentan valores de opacidad superiores al 40%, una buena dispersión en ángulos grandes y una distribución de ángulos superficiales centrada en torno a los 30°, lo que, según la bibliografía, permite atrapar eficazmente la luz en las células solares de capa fina de Si.
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