Resumen

La deposición química de vapor inducida por láser (LICVD) es un método de síntesis de nanopolvos en el que las nanopartículas de un producto sintético se someten a un proceso de nucleación, crecimiento y aglomeración. El proceso de crecimiento es crucial porque determina directamente la tasa de crecimiento y el tamaño final de las nanopartículas. En este trabajo se analiza el proceso de crecimiento de las nanopartículas mediante un estudio de dinámica molecular, y el proceso se divide en cinco pasos. Además, este estudio explica los procesos microscópicos de transferencia de calor y de masa que se producen en el espacio circundante y en la superficie de las partículas. Se proponen y modelizan tres condiciones de restricción que pueden limitar el proceso de crecimiento, a saber, la restricción de transferencia, la restricción de superficie y la restricción de temperatura. Para calcular el diámetro final y la tasa de crecimiento de las nanopartículas, se desarrollan fórmulas para las condiciones de restricción. Se discute en detalle el comportamiento de cuatro gases en la zona de crecimiento de las partículas.

• Materias:Sistema cuántico Masa (Física) fotoelectrones Iones Reacciones Nucleares
• Subjects:Quantum system Mass (Physical) photoelectrons Ions Nuclear Reactions
• Palabras claves:condiciones de restricción, proceso de crecimiento, condiciones de restricción de temperatura, deposición química de vapor, tamaño de las nanopartículas, zona de crecimiento de las partículas, métodos de síntesis de nanopartículas, proceso de crecimiento de las nanopartículas, estudio de dinámica molecular, tasa de crecimiento de las nanopartículas
• Keywords:constraints conditions, growth process, temperature constraints conditions, chemical vapor deposition, size of nanoparticles, particulate growth zone, nanopowder synthesis methods, nanoparticle growth process, molecular dynamic study, nanoparticle growth rate