Resumen

En este artículo se propone una técnica litográfica que puede emplearse para producir matrices de nanopatrones con límites de subdifracción en grandes superficies (unos centímetros cuadrados). Se dispone una matriz de esferas de poliestireno (PS) sobre la superficie de una capa de plata que tiene un grosor de unas decenas de nanómetros. Con la luz de iluminación normal de longitud de onda 365 nm perpendicular al sustrato, las PS pueden generar una matriz de patrones ópticos de gran intensidad en sus puntos de contacto con la plata. Mediante el diseño de la losa de plata, las ondas evanescentes que transportan información de sub-longitud de onda sobre los patrones ópticos se potencian sustancialmente, mientras que los componentes de propagación se restringen. En el fotorresistente que se encuentra al otro lado de la plata, la intensidad óptica se redistribuye y se obtienen patrones de subdifracción-límite tras la exposición y el revelado. Para verificar la técnica se han realizado simulaciones en el dominio del tiempo por diferencias finitas (FDTD) y experimentos. Los resultados muestran que utilizando PS con un diámetro de 600 nm se pueden obtener nanopatrones con una dimensión inferior a 80 nm.

• Materias:Biotecnología Nanotecnología Nanopartículas Bioingeniería Sistema de nanopartículas Nanotubos Nanomateriales
• Subjects:Biotechnology Nanotechnology Nanoparticles Bioengineering Nanoparticle system Nanotubes Nanomaterials
• Palabras claves:plata, patrones ópticos, técnica litográfica conveniente, luz de iluminación normal, varios centímetros cuadrados, matriz, nanopatrones, subdifracción, puntos de contacto, tiempo de diferencia
• Keywords:silver, optical patterns, convenient lithographic technique, normal illumination light, several square centimeters, array, nanopatterns, subdiffraction, contact points, difference time