En este artículo se describe un método para fabricar células solares de película delgada de silicio de heterounión con una estructura ITO/p-type a-Si :H/n-type c-Si mediante pulverización catódica por magnetrón de radiofrecuencia. Se alcanzó una densidad de corriente de cortocircuito y una eficiencia de 28,80 mA/cm2 y 8,67%. Se presentan nuevas obleas de silicio con nanopatrones para su uso en células. Las células de heterounión mejoradas se forman sobre un sustrato de silicio nanopatternizado que se prepara con una monocapa autoensamblada de nanoesferas de SiO2 con un diámetro de 550 nm utilizadas como máscara de grabado. La eficiencia de las células de heterounión sobre sustrato de silicio con nanopatrones fue un 31,49% superior a la de las células de heterounión sobre una oblea de silicio plana.
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