Photocatalytic decomposition of acetaldehyde gas on TiO2-SiO2 thin film photocatalyst : a kinetic analysis

Descomposición fotocatalítica de gas acetaldehído sobre una película fotocatalítica delgada de TiO2/SiO2 : un análisis cinético

Se elaboraron películas fotocatalíticas delgadas de TiO₂-SiO₂ con contenidos de SiO₂ de 5 (TF95/5) y 10 w/w% (TF90/10) mediante el método sol-gel. Se llevó a cabo una caracterización empleando difractometría de rayos X y microscopía electrónica de efecto de campo para investigar el efecto del dopaje de SiO₂ sobre las propiedades fisicoquímicas de las películas de TiO₂. Se evaluó el desempeño fotocatalítico a través de la degradación de gas acetaldehído a diversas concentraciones iniciales bajo radiación UV de intensidad fija.

Síntesis de fotocatalizadores activos a la radiación visible y aplicación en película delgada

Synthesis of visible-light photocatalysts and its application as thin films

En este estudio se sintetizaron los molibdatos γ-Bi₂MoO₆ y α-Bi₂Mo₃O₁₂ mediante la técnica de coprecipitación. Ambos óxidos fueron evaluados como fotocatalizadores en la degradación del colorante rodamina B. El óxido γ-Bi₂MoO₆ mostró la mayor actividad fotocatalítica con un 86 % de mineralización del contaminante después de 100 h de irradiación con luz visible. Con el objetivo de acercarse a una aplicación tecnológica, se desarrollaron películas delgadas de γ-Bi₂MoO₆ mediante un proceso secuencial de evaporación/descomposición en un sistema de evaporación térmica (TES).

Crecimiento y caracterización de películas de óxido de zinc por sputtering para su potencial aplicación en fotocatálisis

Growing and characterisation of zinc oxide films by sputtering for its potential application in photocatalysis

El uso de películas fotocatalíticas presenta ciertas ventajas sobre el uso de fotocatalizadores en polvo para el desarrollo de nuevas y mejores técnicas de aplicación práctica. Aunque se han hecho esfuerzos continuos por mejorar la calidad de películas de óxido de zinc (ZnO) para diversos usos, es necesario explorar técnicas de depósito novedosas y relacionar las condiciones de trabajo con las características de las películas y su actividad fotocatalítica.

Esta investigación es un estudio sistemático sobre el crecimiento de películas delgadas de ZnO utilizando el método de pulverización catódica (sputtering) en atmósfera de argón. Las películas se prepararon a partir de blancos de ZnO sobre sustratos de vidrio. Las condiciones de depósito exploradas se encuentran en el intervalo de potencia (100-300 W), la temperatura del sustrato (23-500 °C), el flujo de gas de proceso (15-35 SCCM) y el tiempo de depósito (5-60 min). Empleando las técnicas de caracterización de difracción de rayos X (DRX) y microscopía electrónica de transmisión (MET), se determinaron las características estructurales y el tamaño de partícula. La morfología se observó utilizando microscopía electrónica de barrido (MEB) y microscopía de fuerza atómica (MFA).