Comportamiento dinámico de un reactor de polimerización en fase gaseosa

Dynamic behavior of a polymerization reactor in gaseous phase

El presente documento discute los resultados de una investigación realizada acerca del diseño de un sistema de control de temperaturas para un reactor para polimerización. El objetivo principal de este tipo de sistemas de control es mantener la temperatura constante, a fin de garantizar la máxima productividad de los reactivos y la energía invertida en el proceso. Los reactores de polimerización de etileno en fase gaseosa deben asegurar un control adecuado de temperatura, ya que ello garantiza que la temperatura en la zona de reacción se mantenga muy por encima del punto de rocío de los reactivos, aunque teniendo la precaución de mantenerla muy por debajo del punto de fusión del polímero. Se debe tener en cuenta que este tipo de reacciones son muy inestables; por ello, se debe aplicar un estricto control de temperatura, a fin de mantenerla constante durante todo el proceso.

En este trabajo, se tomó como caso de estudio el comportamiento dinámico de un reactor de lecho fluidizado industrial de polimerización, con la ubicación de puntos de bifurcación y el sistema de estabilización de controlador PID diseñado a través de la optimización en el dominio de la frecuencia.

Desarrollo de un sistema automatizado y de control remoto para un reactor mono-evaporador de arco pulsado

Development of an automated remote-controlled system for a pulsed arc monoevaporator reactor

Este documento describe brevemente, a manera de introducción, las características y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la técnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la función del sistema de automatizado, el cual tiene como finalidad controlar variables del proceso de deposición de películas delgadas, tales como presión, voltaje bias, flujo de gases, velocidad del movimiento de rotación del porta muestra y temperatura.

Se explica la manipulación de las variables mencionadas anteriormente mediante la interfase LabVIEW para controlar la deposición de los metales de recubrimiento dentro del reactor, realizando el ajuste adecuado de las variables mediante la utilización de lógica y control difuso, los cuales permitieron mantener un ajuste dentro del valor de cada variable por debajo del 4% de su valor real.

En conclusión, este mecanismo de automatización permite reducir el tiempo de producción, estandariza el proceso de deposición y se da una supervisión constante de estas variables; además, es una herramienta que permite que el control del reactor también se pueda realizar vía control remoto mediante la utilización de Internet.