Fabricación de circuitos integrados
Nanotecnología y nuevos materiales
- Video:Circuitos fotónicos integrados. Dr. Gerardo Antonio Castañón Ávila
- Fuente:Tecnológico de Monterrey | Innovación Educativa
Recent Advances in Reactive Ion Etching and Applications of High-Aspect-Ratio Microfabrication
Avances recientes en el grabado iónico reactivo y aplicaciones de la microfabricación de alta relación de aspecto.
El grabado de alta relación de los materiales utilizados en la mino y nanofabricación se ha convertido en una tecnología muy importante para las aplicaciones de micromecanizado a gran escala y la tecnología de circuitos integrados principales tales como la integración de sistemas multifuncionales tridimensionales. Las características del grabado icónico de reacción (RIE) tradicional proporciona altos niveles de anisotropía en comparación con las tecnologías de la competencia lo cuál permite controlar con mayor precisión y exactitud las dimensiones del dispositivo resultante. Esto está relacionado directamente con la reducción de los costos de desarrollo y mejora en la cadena de producción. Sin embargo, el RIE tradiciones se limita a profundidades de grabado moderadas; los nuevos métodos han permitido realizar grabados considerablemente más profundos y relaciones de aspecto más elevadas en relación con los métodos tradicionales.
Este artículo fue realizado por Michael Huff (Corporation for National Research Initiatives, Reston, USA) para Micromachines (Vol 12, núm 8, p. 991, 2021) una revista que divulga investigaciones relacionadas con estructuras, materiales, dispositivos y sistemas a micro/nanoescala. Esta es una publicación de MDPI, una plataforma de revistas científicas de acceso abierto operada por MDPI Verein (Basilea, Suiza). Correo de contacto: [email protected]
Silicon Nanowires: A Breakthrough for Thermoelectric Applications
Nanocables de silicio: Un gran avance para las aplicaciones termoeléctricas.
El silicio es un material óptimo para las aplicaciones termoeléctricas y podría hacer un aporte significativo en los campos fundamentales de la micro y macrocosecha de energía. Los autores, basados en publicaciones experimentales recientes, demuestran que el factor potencial del silicio es muy elevado en el rango de la temperatura que lo hace uno de los mejores materiales para las aplicaciones termoeléctricas. En este artículo se muestra la viabilidad de los dispositivos macroscópicos basados en grandes colecciones de nanoestructuras de silicio monocristalino sus procesos de fabricación. Además, los autores resaltan que el principal inconveniente para el uso del silicio es la problemática alrededor de la nanofabricación.
Este artículo fue realizado por Giovanni Pennelli, Elisabetta Dimaggio, Antonella Masci (Università di Pisa, Pisa, Italy) para Materials (Vol 14, núm 18, p. 5305, 2021), una revista que divulga artículos relacionados con la estructura, las propiedades y las funciones de todo tipo de materiales. Esta es una publicación de MDPI, una plataforma de revistas científicas de acceso abierto operada por MDPI Verein (Basilea, Suiza). Correo de contacto: [email protected]
