Cobreado
Recubrimientos industriales. Primera entrega
Aquí se muestran aspectos diversos de la obtención de recubrimientos de cobre mediante electroplateado o por vía química, sus propiedades y algunas aplicaciones.
Estudio de electrodeposición de cobre sobre electrodos porosos de grafito y acero inoxidable vía SEM-DRX y análisis de imagen
Study on copper electrodeposition on porous graphite and stainless steel electrodes by SEM-XRD and image analysis
El propósito de esta investigación fue llevar a cabo un análisis cualitativo de la distribución de un electrodepósito de cobre en el interior de electrodos porosos (EP) de acero inoxidable y carbono grafito. Para ello, se realizaron pruebas de electrodeposición a nivel de laboratorio con un estudio posterior de cortes de muestras de acero y grafito vía microscopía estereoscópica, microscopía SEM-DRX y análisis de imagen. Los resultados mostraron que el metal no se deposita en forma uniforme al interior del electrodo.
Este documento fue redactado por Robinson Constanzo (Pontificia Universidad Católica de Valparaíso, Valparaíso, Chile), Antonio Pagliero y Froilán Vergara (Universidad de Concepción, Concepción, Chile) para Dyna (Vol. 81, No 187, 2014, 41-48), revista alojada en el portal de la biblioteca electrónica de publicaciones científicas SciELO (Scientific Electronic Library On-Line)-Colombia (Bogotá, Colombia). SciELO es un modelo para la publicación electrónica cooperativa de revistas científicas en Internet, especialmente desarrollado para responder a las necesidades de la comunicación científica en los países en desarrollo, y particularmente de América Latina y el Caribe. Correo de contacto de la revista: [email protected].
Análisis espectroscópico de las películas delgadas de óxido de cobre y del plasma producido por deposición de láser pulsado
Spectroscopic analysis of copper oxide thin films and plasma produced by pulsed laser deposition
Mediante análisis espectroscópico se estudió el plasma y las películas delgadas de cobre obtenidas por la técnica de deposición de láser pulsado (PLD). Se utilizó la espectroscopía de emisión óptica para analizar los espectros de emisión del plasma de cobre producidos con un láser Nd:YAG de 1064 nm que ablacionó el blanco de cobre. La película delgada creció sobre un sustrato amorfo (vidrio) a temperatura ambiente y se varió la presión del argón desde 1,2 Pa hasta 26,6 Pa. Se obtuvieron líneas de cobre neutro y de ion de cobre con una significativa diferencia en sus intensidades, lo que se relaciona con una mayor probabilidad de emisión en el verde y con el color del plasma observado durante la ablación.
Este artículo fue preparado por L.P. Vera, J.A. Pérez y H. Riascos (Departamento de Física, Universidad Tecnológica de Pereira (UTP), Pereira, Colombia) para la Revista Colombiana de Física (Vol. 45, No 2, 2013, 146-150), publicación de la Sociedad Colombiana de Física que difunde investigaciones de todos los campos de la física. Correo de contacto de la revista: [email protected].
